本文標(biāo)題:"電子顯微鏡分辨率高,但觀察的試樣范圍小"
發(fā)布者:yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過(guò)-----時(shí)間:2016-3-12 1:31:51
電子顯微鏡分辨率高,但觀察的試樣范圍小
形核過(guò)程
再結(jié)晶的形核是一個(gè)比較復(fù)雜的過(guò)程,這一過(guò)程可能從幾十
個(gè)或幾百個(gè)原子范圍的微觀尺度開(kāi)始發(fā)生,并常常局限于變形基
體的某些局部。從實(shí)驗(yàn)角度來(lái)講,光學(xué)顯微鏡的分辨率不夠大,且
不便確定晶粒的取向;而電子顯微鏡分辨率高,但觀察的試樣
范圍又很小。因此,人們難于捕捉到再結(jié)晶形核過(guò)程的起始行為。
金屬再結(jié)晶形核的理論至今還很不完善,尚有不同的理論來(lái)描述
這一過(guò)程。
經(jīng)典形核理論
經(jīng)典形核理論認(rèn)為,在變形結(jié)構(gòu)中借助點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的能量起伏
可以形成具有長(zhǎng)大能力的核。這電是所謂的均勻形核或自發(fā)形核
過(guò)程。在這一過(guò)程中,一方面由于低位錯(cuò)密度結(jié)構(gòu)的形成使自由
能降低;另一方面由于生成的新核與基體的界面又使自由能升高。
上述分析表明再結(jié)晶的形核過(guò)程不可能是經(jīng)典的自發(fā)形核過(guò)
程,但是經(jīng)典形核理論提供了一個(gè)臨界核尺寸的概念,即再結(jié)晶
核必須大于某一尺寸才能自發(fā)生長(zhǎng)。由于能量起伏實(shí)際不能造成
再結(jié)晶核,因此,人們不得不設(shè)想大于臨界尺寸的再結(jié)晶核已存
在于變形基體內(nèi)。
晶界形核(應(yīng)變誘發(fā)晶界移動(dòng))
解釋再結(jié)晶形核過(guò)程通常要說(shuō)明再結(jié)晶核與變形基體之間是
怎樣形成可動(dòng)性好的大角度晶界的。變形金屬通常是多晶體,因
此常常會(huì)有許多大角度晶界。由于各晶粒取向的差別,當(dāng)冷變形
量很低時(shí)不同取向的晶粒所經(jīng)受的變形量可能不同,因而它們的
位錯(cuò)密度會(huì)有所差別。一晶界兩側(cè)位錯(cuò)密度的這種差別在一定條
件下會(huì)造成該晶界向高位錯(cuò)密度一側(cè)移動(dòng)。當(dāng)變形量較高時(shí),則
大角度晶界兩側(cè)的位錯(cuò)密度沒(méi)有本質(zhì)區(qū)別,因而不會(huì)出現(xiàn)上述驅(qū)
使晶界單向移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。如果大角度晶界兩側(cè)的晶體由于取向
或其它因素的影響,在回復(fù)過(guò)程中進(jìn)行了不同的結(jié)構(gòu)調(diào)整從而造
成了位錯(cuò)密度上的差異,則驅(qū)使晶界單向移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力也會(huì)因此
而產(chǎn)生,進(jìn)而造成了再結(jié)晶核的形成。
后一篇文章:金屬分析圖像顯微鏡-再結(jié)晶晶粒尺寸的分析表 »
前一篇文章:« 鍍層電析應(yīng)力的工藝-樣品截面分析圖像顯微鏡
tags:材料學(xué),金相顯微鏡,上海精密儀器,
電子顯微鏡分辨率高,但觀察的試樣范圍小,金相顯微鏡現(xiàn)貨供應(yīng)
本頁(yè)地址:/gxnews/3288.html轉(zhuǎn)載注明
本站地址:/
http://www.xianweijing.org/